雙端磁控濺射離子鍍膜機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN94237225.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN2186249Y 公開(kāi)（公告）日 1994-12-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN2186249Y 申請(qǐng)公布日 1994-12-28
分類號(hào) C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭傳才;魏敏;胡云慧;田雨時(shí);劉重光;金昭廷;黃廣連 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 長(zhǎng)沙國(guó)防科技大學(xué)八達(dá)薄膜電子技術(shù)研究所
代理機(jī)構(gòu) 湖南省專利服務(wù)中心 代理人 長(zhǎng)沙國(guó)防科技大學(xué)八達(dá)薄膜電子技術(shù)研究所
地址 410073湖南省長(zhǎng)沙市國(guó)防科技大學(xué)四系
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及的是一種雙端磁控濺射離子鍍膜機(jī)，由真空室和傳輸機(jī)構(gòu)組成。其中真空室包括前、后鎖室、濺射區(qū)、隔離區(qū)和壓差室，真空室內(nèi)設(shè)置有加熱裝置和濺射靶、偏壓裝置，在前鎖室上開(kāi)有入口，后鎖室上開(kāi)有出口，在真空室壁上設(shè)有穿越口。本實(shí)用新型具有長(zhǎng)度尺寸小，從而投資小，生產(chǎn)節(jié)拍快，具有多種功能，既可以鍍熱反射玻璃，也可以鍍低輻射玻璃，還可以在瓷磚、鋼板上鍍膜以及在有一定曲面的板上鍍膜，且膜的附著力，膜厚的均勻性都明顯改善，從而大大提高產(chǎn)品的質(zhì)量。