橫向均勻的微波加熱爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811382228.6 申請日 -
公開（公告）號 CN109951913A 公開（公告）日 2019-06-28
申請公布號 CN109951913A 申請公布日 2019-06-28
分類號 H05B6/72（2006.01）I; H05B6/70（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 王清源; 徐立 申請（專利權(quán)）人 成都賽納為特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 610015 四川省成都市成都高新區(qū)（西區(qū)）天辰路88號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明采用一個到兩個輻射陣列在橫向均勻的微波加熱爐的加熱腔的前方、后方或上方盡量多地激勵起高次模TEn0模式（n為整數(shù)，大于等于2），從而在所述加熱腔中形成均勻分布的駐波。所述至少一個輻射陣列包括沿Z軸的至少兩行輻射器。所述輻射陣列通過地板向所述加熱腔輻射微波能量。所述任意輻射陣列上的輻射器沿X方向和沿Z方向都均勻分布。位于同一輻射陣列上的所有輻射器中輻射的微波為相干波。為了進(jìn)一步改善加熱的均勻性，我們使用了可以橫向平移的或者可以繞加熱腔的垂直軸線進(jìn)動的旋轉(zhuǎn)圓盤。本發(fā)明通過控制橫向均勻的微波加熱爐的空腔中的微波模式來改進(jìn)橫向均勻的微波加熱爐在三維空間中的加熱的均勻性。