帶圓周進(jìn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)的微波加熱爐
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811380219.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN109951914A | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-06-28 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109951914A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-06-28 |
分類號(hào) | H05B6/78(2006.01)I; H05B6/72(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
發(fā)明人 | 王清源 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 成都賽納為特科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 610015 四川省成都市成都高新區(qū)(西區(qū))天辰路88 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明采用一個(gè)到兩個(gè)輻射陣列在帶圓周進(jìn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)的微波加熱爐的加熱腔的后方或上方盡量多地激勵(lì)起高次模TEn0模式(n為整數(shù),大于等于2),從而在所述加熱腔中形成駐波。與傳統(tǒng)的微波爐中微波源通過(guò)波導(dǎo)和耦合孔在加熱腔中同時(shí)激勵(lì)各自能量難以控制的多個(gè)諧振模式相比,本發(fā)明的工作模式的場(chǎng)分布是確定的并且是可以被控制的。為了進(jìn)一步改善加熱的均勻性,我們使用了可以橫向平移的或者可以繞加熱腔的垂直軸線進(jìn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)。本發(fā)明通過(guò)控制帶圓周進(jìn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)的微波加熱爐的空腔中的微波模式來(lái)改進(jìn)帶圓周進(jìn)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)的微波加熱爐在三維空間中的加熱的均勻性。本發(fā)明可以用于對(duì)各種材料的加熱,或者用于加快化學(xué)反應(yīng)的速度。 |
