矩形陣饋式微波加熱爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811380217.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109951911A 公開(kāi)（公告）日 2019-06-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN109951911A 申請(qǐng)公布日 2019-06-28
分類號(hào) H05B6/64（2006.01）I; H05B6/70（2006.01）I; H05B6/72（2006.01）I; H05B6/78（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 王清源 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 成都賽納為特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 610015 四川省成都市成都高新區(qū)(西區(qū))天辰路88
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明采用一個(gè)到兩個(gè)輻射陣列在矩形陣饋式微波加熱爐的加熱腔的前方、后方或上方盡量多地激勵(lì)起高次模TEn0模式（n為整數(shù)，大于等于2），從而在所述加熱腔中形成均勻分布的駐波。本發(fā)明包括加熱腔，至少一個(gè)輻射陣列。與傳統(tǒng)的微波爐中微波源通過(guò)波導(dǎo)和耦合孔在加熱腔中同時(shí)激勵(lì)各自能量難以控制的多個(gè)諧振模式相比，本發(fā)明的工作模式的場(chǎng)分布是確定的并且是可以被控制的。為了進(jìn)一步改善加熱的均勻性，我們使用了可以橫向平移的或者可以繞加熱腔的垂直軸線進(jìn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)。本發(fā)明通過(guò)控制矩形陣饋式微波加熱爐的空腔中的微波模式來(lái)改進(jìn)矩形陣饋式微波加熱爐在三維空間中的加熱的均勻性。