均勻陣饋式微波加熱爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811380152.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109945250A 公開（公告）日 2019-06-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN109945250A 申請(qǐng)公布日 2019-06-28
分類號(hào) F24C7/02（2006.01）I; F24C7/06（2006.01）I; H05B6/64（2006.01）I; H05B6/72（2006.01）I 分類 供熱；爐灶；通風(fēng);
發(fā)明人 王清源 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 成都賽納為特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 610015 四川省成都市成都高新區(qū)(西區(qū))天辰路88
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明采用一個(gè)到兩個(gè)輻射陣列在均勻陣饋式微波加熱爐的加熱腔的后方或上方盡量多地激勵(lì)起高次模TEn0模式（n為整數(shù)，大于等于2），從而在所述加熱腔中形成駐波。本發(fā)明包括加熱腔，至少一個(gè)輻射陣列。所述輻射陣列的輻射面與加熱腔一個(gè)面重合并且尺寸相同。與傳統(tǒng)的微波爐中微波源通過(guò)波導(dǎo)和耦合孔在加熱腔中同時(shí)激勵(lì)各自能量難以控制的多個(gè)諧振模式相比，本發(fā)明的工作模式的場(chǎng)分布是確定的并且是可以被控制的。為了進(jìn)一步改善加熱的均勻性，我們使用了可以橫向平移的或者可以繞加熱腔的垂直軸線進(jìn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)圓盤。本發(fā)明通過(guò)控制均勻陣饋式微波加熱爐的空腔中的微波模式來(lái)改進(jìn)均勻陣饋式微波加熱爐在三維空間中的加熱的均勻性。