頂饋式微波加熱爐

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811380236.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109951912A 公開（公告）日 2019-06-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN109951912A 申請(qǐng)公布日 2019-06-28
分類號(hào) H05B6/64（2006.01）I; H05B6/68（2006.01）I; H05B6/70（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 王清源 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 成都賽納為特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 610015 四川省成都市成都高新區(qū)(西區(qū))天辰路88
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明采用一個(gè)到兩個(gè)輻射陣列在頂饋式微波加熱爐的加熱腔的后方或上方盡量多地激勵(lì)起高次模TEn0模式（n為整數(shù)，大于等于2），從而在所述加熱腔中形成駐波。本發(fā)明包括加熱腔，一個(gè)輻射陣列。所述至少一個(gè)輻射陣列包括沿Z軸的至少兩行輻射器1。為了進(jìn)一步改善加熱的均勻性，我們使用了可以橫向平移的或者可以繞加熱腔的垂直軸線進(jìn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)圓盤。本發(fā)明通過(guò)控制頂饋式微波加熱爐的空腔中的微波模式來(lái)改進(jìn)頂饋式微波加熱爐在三維空間中的加熱的均勻性。本發(fā)明可以用于對(duì)各種材料的加熱，或者用于加快化學(xué)反應(yīng)的速度。