一種牙釉質輻射劑量的預測方法、系統(tǒng)、存儲介質及終端

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210087045.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114488252A 公開（公告）日 2022-05-13
申請公布號 CN114488252A 申請公布日 2022-05-13
分類號 G01T1/02（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 劉玉連;馮端宇;焦玲;胡兵;張文藝;張世全;胡晨晨;林軍平;景鵬偉 申請（專利權）人 中國醫(yī)學科學院放射醫(yī)學研究所
代理機構 天津盈佳知識產權代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 300192天津市南開區(qū)白堤路238號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于輻射劑量估算分析技術領域，公開了一種牙釉質輻射劑量的預測方法、系統(tǒng)、存儲介質及終端。選擇與已準備的BGS基底和RIS基底一樣的采樣點，求得待預測樣本對應點上的EPR譜圖值；使用快速傅里葉變換對當前的待預測樣本的EPR譜圖進行降噪處理；通過改進矩陣，求得待預測樣本的RIS強度；根據(jù)線性劑量響應關系，求得待預測樣本的輻射劑量值。本發(fā)明計算量與原有矩陣方法持平，沒有引入新的模型參數(shù)，參數(shù)數(shù)量少，擬合效果很好，擬合誤差均小于1％，本發(fā)明可實現(xiàn)更低劑量的EPR牙釉質劑量估算，在小于0.3Gy的低劑量區(qū)內，計算所得的照射劑量值與真值相差≤16％。