一種牙釉質(zhì)輻射劑量的預(yù)測(cè)方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210087045.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114488252A | 公開（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114488252A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-13 |
| 分類號(hào) | G01T1/02（2006.01）I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 劉玉連;馮端宇;焦玲;胡兵;張文藝;張世全;胡晨晨;林軍平;景鵬偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中國醫(yī)學(xué)科學(xué)院放射醫(yī)學(xué)研究所 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 天津盈佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 300192天津市南開區(qū)白堤路238號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于輻射劑量估算分析技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種牙釉質(zhì)輻射劑量的預(yù)測(cè)方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及終端。選擇與已準(zhǔn)備的BGS基底和RIS基底一樣的采樣點(diǎn)，求得待預(yù)測(cè)樣本對(duì)應(yīng)點(diǎn)上的EPR譜圖值；使用快速傅里葉變換對(duì)當(dāng)前的待預(yù)測(cè)樣本的EPR譜圖進(jìn)行降噪處理；通過改進(jìn)矩陣，求得待預(yù)測(cè)樣本的RIS強(qiáng)度；根據(jù)線性劑量響應(yīng)關(guān)系，求得待預(yù)測(cè)樣本的輻射劑量值。本發(fā)明計(jì)算量與原有矩陣方法持平，沒有引入新的模型參數(shù)，參數(shù)數(shù)量少，擬合效果很好，擬合誤差均小于1％，本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)更低劑量的EPR牙釉質(zhì)劑量估算，在小于0.3Gy的低劑量區(qū)內(nèi)，計(jì)算所得的照射劑量值與真值相差≤16％。 |
