一種真空鍍膜設(shè)備多路入氣多級整流工藝及氣路系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010848497.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112030141A | 公開（公告）日 | 2020-12-04 |
| 申請公布號 | CN112030141A | 申請公布日 | 2020-12-04 |
| 分類號 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 葉飛;劉曉萌 | 申請（專利權(quán)）人 | 無錫愛爾華光電科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 無錫盛陽專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 無錫愛爾華光電科技有限公司 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市濱湖區(qū)胡埭鎮(zhèn)金桂路7號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種真空鍍膜設(shè)備多路入氣多級整流工藝，即便是面對大面積的基片，其也可以使基片上的鍍膜效果一致，可以明顯提升整體鍍膜均勻性。本發(fā)明技術(shù)方案中，將整流板分割為N×S個獨立氣流控制區(qū)域，采用離散式的氣路控制模式，結(jié)合各區(qū)域內(nèi)基材、工藝氣體本身的實際條件，通過獨立氣流控制器獨立調(diào)節(jié)各個獨立氣流控制區(qū)域的氣流通入?yún)?shù)；根據(jù)工藝氣體本身的特征，設(shè)置1級或多級整流，對工藝氣體進行多級整流、分級擴散，使各區(qū)域的鍍膜效果區(qū)域一致。同時本發(fā)明也公開了實現(xiàn)真空鍍膜設(shè)備多路入氣多級整流工藝的氣路系統(tǒng)。?? |
