一種真空鍍膜生產(chǎn)線真空腔抽氣提速方法及真空氣囊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010849040.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112030131A 公開（公告）日 2020-12-04
申請公布號 CN112030131A 申請公布日 2020-12-04
分類號 C23C14/56;C23C16/54 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 葉飛;劉曉萌 申請（專利權(quán)）人 無錫愛爾華光電科技有限公司
代理機構(gòu) 無錫盛陽專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 無錫愛爾華光電科技有限公司
地址 214000 江蘇省無錫市濱湖區(qū)胡埭鎮(zhèn)金桂路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種真空鍍膜生產(chǎn)線真空腔抽氣提速方法，其可以有效的縮短真空腔體抽氣時間，提高工作效率，降低加工成本。本發(fā)明技術(shù)方案中，通過設(shè)置一種真空氣囊，將真空氣囊預(yù)先進行真空抽氣，然后放入進出片腔體，達到縮短抽真空時間，提高工作效率的目的。同時本發(fā)明還公開了一種真空鍍膜生產(chǎn)線真空腔抽氣提速用真空氣囊。