一種雙向鍍膜磁控濺射方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011515373.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112593196A 公開（公告）日 2021-04-02
申請公布號 CN112593196A 申請公布日 2021-04-02
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄭佳毅 申請（專利權(quán)）人 無錫愛爾華光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫盛陽專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 顧吉云;黃瑩
地址 214000江蘇省無錫市濱湖區(qū)胡埭鎮(zhèn)金桂路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種雙向鍍膜磁控濺射方法，其可以提高鏡像靶磁控濺射方法鍍膜效率，同時提升有效產(chǎn)能；其在第一鏡像陰極靶材、第二鏡像陰極靶材之間的濺射粒子運(yùn)動的兩個方向上，都分別設(shè)置成像位置，基于本發(fā)明的鍍膜設(shè)備，可以同時在兩個方向?qū)蓚€基材進(jìn)行鍍膜。