一種真空鍍膜生產(chǎn)線真空腔抽氣提速用真空氣囊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021762791.9 申請日 -
公開（公告）號 CN212560428U 公開（公告）日 2021-02-19
申請公布號 CN212560428U 申請公布日 2021-02-19
分類號 C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 葉飛;劉曉萌 申請（專利權(quán)）人 無錫愛爾華光電科技有限公司
代理機構(gòu) 無錫盛陽專利商標事務(wù)所（普通合伙） 代理人 顧吉云;黃瑩
地址 214000江蘇省無錫市濱湖區(qū)胡埭鎮(zhèn)金桂路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種真空鍍膜生產(chǎn)線真空腔抽氣提速用真空氣囊，其可以有效的縮短真空腔體抽氣時間，提高工作效率，降低加工成本。其包括：內(nèi)部為真空腔的氣囊本體，所述氣囊本體外形為矩形，所述氣囊本體的側(cè)壁上設(shè)置用于連接真空泵的預(yù)抽口。