一種高溫高真空退火爐
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010194318.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113493904A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
申請公布號 | CN113493904A | 申請公布日 | 2021-10-12 |
分類號 | C23C14/56(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;C21D9/00(2006.01)I;C21D1/26(2006.01)I;C21D1/773(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 白印;馬錦;李昌龍 | 申請(專利權(quán))人 | 中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 白振宇 |
地址 | 110168遼寧省沈陽市渾南新區(qū)新源街1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及真空鍍膜實(shí)驗(yàn)設(shè)備,具體地說是一種高溫高真空退火爐,離子泵、退火室腔體、進(jìn)樣室腔體及分子泵依次連接,分子泵與機(jī)械泵通過管路相連,離子泵與退火室腔體之間、退火室腔體與進(jìn)樣室腔體之間以及進(jìn)樣室腔體與分子泵之間均設(shè)置有插板閥;退火室腔體內(nèi)設(shè)有固定的上加熱器及可上下升降的下加熱器,進(jìn)樣室腔體內(nèi)設(shè)有可上下升降的多層樣品庫,進(jìn)樣室腔體的一側(cè)安裝有手動傳遞桿機(jī)械手。本發(fā)明可在真空條件下快速和退火室完成樣品交換,保證退火室一直處于高真空狀態(tài)。本發(fā)明的高溫高真空退火爐,退火室的冷態(tài)極限真空度可達(dá)到10Pa超高真空,在加熱1600℃時(shí)熱態(tài)真空度可達(dá)到10Pa,而且可實(shí)現(xiàn)樣品不高于1600℃下的長時(shí)間保溫退火。 |
