一種磷化銦單晶的生長裝置及生長方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110870551.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113774489A | 公開(公告)日 | 2021-12-10 |
申請公布號 | CN113774489A | 申請公布日 | 2021-12-10 |
分類號 | C30B29/40(2006.01)I;C30B13/14(2006.01)I;C30B13/28(2006.01)I;C30B13/32(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 龐昊;謝雨凌 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥天曜新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 吳桑 |
地址 | 230000安徽省合肥市經(jīng)開區(qū)芙蓉路合肥海恒投資控股集團公司3#-B廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及晶體生長技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種磷化銦單晶的生長裝置,包括固定加熱器、移動加熱器、晶體生長容器和電磁攪拌裝置,所述移動加熱器和電磁攪拌裝置可在晶體生長容器外移動。本發(fā)明還提供一種磷化銦單晶的生長方法,通過將原料放入到晶體生長容器中并加熱到750℃,然后通過移動加熱器加熱到1075℃,移動移動加熱器和電磁攪拌裝置至其鉛垂面離開晶體生長容器,保溫并待爐溫降至室溫。本發(fā)明降低了Si污染,制得的單晶純度高;采用移動加熱器的方法,避免移動晶體生長容器可能引起的振動,能有效提高單晶率;通過雙加熱器的相對移動實現(xiàn)溫場的移動,溫場控制相對簡單,控溫精度容錯率高,便于維護和校準。 |
