一種燒結釹鐵硼磁體表面功能膜層及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911401802.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111118465A 公開（公告）日 2020-05-08
申請公布號 CN111118465A 申請公布日 2020-05-08
分類號 C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;H01F41/02 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 段永利;鄧文宇;齊麗君;孫寶玉 申請（專利權）人 沈陽中北通磁科技股份有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 110168 遼寧省沈陽市渾南區(qū)匯泉東路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種燒結釹鐵硼磁體表面功能膜層及其制備方法，包括磁體預處理工藝、磁體沉積前處理以及物理氣相沉積法制備功能膜層。該功能膜層是以Al2O3層和TiN層為周期的多周期復合膜層，該功能膜層同時具有15GPa以上的硬度、良好的腐蝕防護性能和抗氧化性能。與此同時通過層和TiN層的交替沉積，避免形成貫穿單層薄膜的針孔、通孔和微裂紋等組織缺陷的出現，較好地解決了傳統(tǒng)單層薄膜厚度難以控制的缺陷，并通過Al2O3的加入增強了磁體的耐高溫氧化性。采用雙層膜交替沉積，多周期組合的形式，減少了膜層內應力，增強了膜基結合力。通過在釹鐵硼表面沉積功能膜層擴展了釹鐵硼在高濕熱及酸堿環(huán)境下的應用領域。