精密曝光、涂布裝備防微振基座設(shè)計(jì)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110185407.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113389217A 公開（公告）日 2021-09-14
申請公布號 CN113389217A 申請公布日 2021-09-14
分類號 E02D27/44（2006.01）I;E02D15/02（2006.01）I;E02D31/08（2006.01）I 分類 水利工程；基礎(chǔ)；疏浚;
發(fā)明人 胡明祎;王進(jìn)沛;張成宇;黃偉;王菲;任毅迪;李小云;李逢林 申請（專利權(quán)）人 國機(jī)集團(tuán)科學(xué)技術(shù)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華旭智信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳鵬章
地址 100032北京市西城區(qū)太平街甲2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種精密曝光、涂布裝備防微振基座設(shè)計(jì)方法，其特征在于，包括：形成用于支撐基臺（10）的華夫板結(jié)構(gòu)（30），其中華夫板結(jié)構(gòu)（30）中形成有通孔（31）；形成基臺（10），包括利用型鋼鋼框架（11）以及鋼板形成無底面鋼箱，將其翻轉(zhuǎn)，進(jìn)行混凝土澆筑；當(dāng)混凝土面層養(yǎng)護(hù)達(dá)到一定強(qiáng)度之后，用鋼板進(jìn)行密封，用作底面；以及對基臺（10）的上表面鋼板進(jìn)行環(huán)氧處理，形成環(huán)氧面層（20）。該基礎(chǔ)可在加工工廠預(yù)制，運(yùn)輸至現(xiàn)場進(jìn)行裝配，具有施工過程簡單便捷，基礎(chǔ)剛性大的特點(diǎn)，可有效減弱曝光機(jī)或涂布機(jī)周圍的環(huán)境振動影響，且便于二次利用。