增亮阻隔膜及具有該增亮阻隔膜的量子點膜、背光模組

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610032614.7 申請日 -
公開（公告）號 CN105652348B 公開（公告）日 2018-02-09
申請公布號 CN105652348B 申請公布日 2018-02-09
分類號 G02B1/10;G02F1/1335;G02F1/13357 分類 光學;
發(fā)明人 胡文瑋 申請（專利權(quán)）人 汕頭萬順新材集團股份有限公司光電科技分公司
代理機構(gòu) 廣州市深研專利事務(wù)所 代理人 張喜安
地址 515078 廣東省汕頭市濠江區(qū)汕頭保稅區(qū)萬順工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種增亮阻隔膜及具有該增亮阻隔膜的量子點膜、背光模組，增亮阻隔膜包括基材層，依次層設(shè)在基材層頂面上的無機鍍層、聚合物層，以及設(shè)置在基材層底面的增亮層，增亮層呈連續(xù)式半圓球狀分布。本發(fā)明所述的增亮阻隔膜層結(jié)構(gòu)簡單，增亮效果好，其應(yīng)用到背光模組中，背光模組中可無需棱鏡膜聚光增亮。