用以提高發(fā)光均勻度的量子點(diǎn)膜制品

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201620555356.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN205861926U 公開（公告）日 2017-01-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN205861926U 申請(qǐng)公布日 2017-01-04
分類號(hào) G02B1/10(2015.01)I;G02B5/02(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 胡文瑋 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 汕頭萬(wàn)順新材集團(tuán)股份有限公司光電科技分公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市深研專利事務(wù)所 代理人 張喜安
地址 515078 廣東省汕頭市濠江區(qū)汕頭保稅區(qū)萬(wàn)順工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種用以提高發(fā)光均勻度的量子點(diǎn)膜制品，包括第一阻隔膜、第二阻隔膜、微結(jié)構(gòu)層以及量子點(diǎn)層，所述微結(jié)構(gòu)層呈若干三棱柱在同一平面平行排布的棱鏡結(jié)構(gòu)，棱鏡高度介于5um?150um，頂角夾角介于60?120度。本實(shí)用新型通過(guò)在阻隔膜上制作微結(jié)構(gòu)層與量子點(diǎn)層結(jié)合，可有效地控制量子點(diǎn)層的厚度，并且微結(jié)構(gòu)層可兼具阻隔的效果，防止水氣從周圍滲入，增加耐用性；并且由于量子點(diǎn)層與微結(jié)構(gòu)層接觸面積變大，可提高與阻隔膜間的接著力。