一種氧化鎵晶片精細研磨液及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010996340.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112322256B 公開（公告）日 2021-12-28
申請公布號 CN112322256B 申請公布日 2021-12-28
分類號 C09K3/14（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 陳政委;趙德剛;范欽明 申請（專利權）人 北京鎵族科技有限公司
代理機構 北京維正專利代理有限公司 代理人 張瑞雪
地址 101300 北京市順義區(qū)順強路1號1幢1層102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及半導體材料的技術領域，具體公開了一種氧化鎵晶片精細研磨液及其制備方法，所述研磨液包括氧化鋁粉、水和懸浮液，所述氧化鋁粉、水、懸浮液的重量比為（2?4）：（4?8）：（0.5?2）；所述懸浮液包括分散劑、懸浮劑和pH調節(jié)劑，所述分散劑、懸浮劑、pH調節(jié)劑的重量比為（0.25?1.75）：（4.5?6.5）：（0.25?1.75）；所述研磨液的制備方法包括混合液的制備、過濾和超聲處理。利用本申請的研磨液對氧化鎵晶片進行研磨，能夠有效提高氧化鎵晶片的研磨質量，進而提高淹了氧化鎵晶片的加工質量，促進氧化鎵晶片的推廣應用以及相關產(chǎn)業(yè)的進一步地發(fā)展。