一種氧化鎵晶片精細(xì)研磨液及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010996340.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112322256B 公開(kāi)（公告）日 2021-12-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN112322256B 申請(qǐng)公布日 2021-12-28
分類號(hào) C09K3/14（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 陳政委;趙德剛;范欽明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京鎵族科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京維正專利代理有限公司 代理人 張瑞雪
地址 101300 北京市順義區(qū)順強(qiáng)路1號(hào)1幢1層102室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體材料的技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種氧化鎵晶片精細(xì)研磨液及其制備方法，所述研磨液包括氧化鋁粉、水和懸浮液，所述氧化鋁粉、水、懸浮液的重量比為（2?4）：（4?8）：（0.5?2）；所述懸浮液包括分散劑、懸浮劑和pH調(diào)節(jié)劑，所述分散劑、懸浮劑、pH調(diào)節(jié)劑的重量比為（0.25?1.75）：（4.5?6.5）：（0.25?1.75）；所述研磨液的制備方法包括混合液的制備、過(guò)濾和超聲處理。利用本申請(qǐng)的研磨液對(duì)氧化鎵晶片進(jìn)行研磨，能夠有效提高氧化鎵晶片的研磨質(zhì)量，進(jìn)而提高淹了氧化鎵晶片的加工質(zhì)量，促進(jìn)氧化鎵晶片的推廣應(yīng)用以及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步地發(fā)展。