一種采用磁控濺射制備的Sr3Al2O6薄膜及其方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811486615.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109628900B 公開(kāi)（公告）日 2021-10-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN109628900B 申請(qǐng)公布日 2021-10-22
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/08 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王霞;李培剛;唐為華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京鎵族科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王文君;陳征
地址 100086 北京市海淀區(qū)中關(guān)村911樓512號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種采用磁控濺射制備Sr3Al2O6薄膜及其方法，所述方法具體為：將Sr3Al2O6陶瓷靶材通過(guò)磁控濺射的方式，在襯底的溫度為300℃?850℃的生長(zhǎng)條件下，制備Sr3Al2O6薄膜。所述方法制備過(guò)程簡(jiǎn)單，易于實(shí)施，工藝可控性強(qiáng)，重復(fù)性好，靶材重復(fù)使用率高，生產(chǎn)成本低；所制得的Sr3Al2O6薄膜，結(jié)晶性好、致密性好、表面均勻。