一種用于掩膜版光阻涂布夾具的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021590247.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212515343U | 公開（公告）日 | 2021-02-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212515343U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-02-09 |
| 分類號(hào) | G03F7/16(2006.01)I; | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 林偉;鄭宇辰;林超;周榮梵;王偉軼 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 成都路維光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都行之專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 唐邦英 |
| 地址 | 610000四川省成都市高新區(qū)康強(qiáng)三路1666號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種用于掩膜版光阻涂布夾具的裝置，包括主體框架，所述主體框架為矩形框，還包括擋塊和墊塊，所述擋塊至少設(shè)置4個(gè)，所述墊塊設(shè)置4個(gè)，所述墊塊設(shè)置在主體框架的2個(gè)對(duì)稱邊上均設(shè)置有若干T形槽，所述擋塊和墊塊可拆卸式設(shè)置在T形槽內(nèi)，主體框架同一側(cè)上的擋塊設(shè)置在2個(gè)墊塊之間，4個(gè)墊塊用于放置掩膜版，4個(gè)墊塊分別與掩膜版的四個(gè)角相匹配，所述擋塊設(shè)置在掩膜版的上方。本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)是：墊塊可以根據(jù)掩膜版尺寸自由調(diào)整位置，提高了工件的靈活性和通用性；材料除具有高強(qiáng)度、不產(chǎn)塵、防靜電的特點(diǎn)；提高了機(jī)臺(tái)的利用率和降低生產(chǎn)成本。?? |
