一種基于AOI系統(tǒng)的掩模版缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110443916.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113138529A | 公開（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113138529A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-20 |
| 分類號(hào) | G03F1/72（2012.01）I;G03F1/84（2012.01）I;H01L21/66（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 林超;林偉;王偉軼;古朋遠(yuǎn) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 成都路維光電有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都行之專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 喻英 |
| 地址 | 610000四川省成都市高新區(qū)康強(qiáng)三路1666號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于AOI系統(tǒng)的掩模版缺陷檢測(cè)方法及系統(tǒng)，先掃描待檢測(cè)的Mask基板得到Mask基板掃描圖形，對(duì)Mask基板掃描圖形進(jìn)行初步缺陷標(biāo)記獲得初步缺陷點(diǎn)位信息；再根據(jù)初步缺陷點(diǎn)位信息對(duì)每個(gè)初步缺陷點(diǎn)位進(jìn)行復(fù)檢，篩選出超標(biāo)假缺陷點(diǎn)位并判斷假缺陷點(diǎn)位數(shù)量是否超標(biāo)，若是，則根據(jù)假缺陷點(diǎn)位的類型進(jìn)行假缺陷點(diǎn)位篩除；最后保留記錄缺陷點(diǎn)位信息；本發(fā)明對(duì)Mask基板的上版位置、關(guān)鍵工藝參數(shù)以及設(shè)備狀態(tài)等多個(gè)方面全面分析了掩模版AOI假缺陷的產(chǎn)生原因，并針對(duì)三類假缺陷分別提出切實(shí)有效的改善對(duì)策，整體上實(shí)現(xiàn)方法簡(jiǎn)單可靠，能夠創(chuàng)造較大的經(jīng)濟(jì)效益。 |
