一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202110045397.6 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112387707A | 公開（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申請公布號 | CN112387707A | 申請公布日 | 2021-02-23 |
| 分類號 | B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 王偉軼;林偉;林超;周榮梵 | 申請（專利權(quán)）人 | 成都路維光電有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 成都行之專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 林菲菲 |
| 地址 | 610000四川省成都市高新區(qū)康強三路1666號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及掩模版輔助裝置技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種掩模版膜面微粒清除裝置及方法。清除裝置包括支座，支座的一側(cè)豎直設(shè)置兩根立柱，兩根立柱并列平行，兩根立柱上均設(shè)有可沿立柱滑動的斜臂，兩根斜臂懸伸端朝遠(yuǎn)離立柱方向延伸的同時朝遠(yuǎn)離支座的方向延伸，兩根斜臂相對的側(cè)面之間設(shè)有可延斜臂滑動的橫桿，橫桿上設(shè)置能進行檢測和清楚作業(yè)的功能模塊，功能模塊可延橫桿滑動。利用該清除裝置及清除方法，在檢查及清除膜面微粒時不會劃傷膜面或帶來微粒殘留，通過鏡頭掃描識別、噴槍姿態(tài)調(diào)控、壓力適配，實現(xiàn)安全、迅捷、準(zhǔn)確地清除作業(yè)，不僅避免了膜面二次污染，還提高了產(chǎn)品曝光良率。?? |
