一種稀土永磁體表面快速真空鍍鋁方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910876814.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110484887A | 公開(kāi)（公告）日 | 2019-11-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110484887A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-11-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/02 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王君 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 合肥賚晟科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥市長(zhǎng)遠(yuǎn)專(zhuān)利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段曉微 |
| 地址 | 230000 安徽省合肥市高新區(qū)玉蘭大道767號(hào)機(jī)電產(chǎn)業(yè)園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種稀土永磁體表面快速真空鍍鋁方法，將磁體基件放置在管狀濺射源中部的濺射腔內(nèi)，所述濺射腔內(nèi)壁具有鋁靶材層；將所述濺射腔進(jìn)行抽真空，然后通入工藝氣體到預(yù)設(shè)壓強(qiáng)值；對(duì)管狀濺射源加負(fù)壓并對(duì)磁體基件加正壓進(jìn)行濺射鍍膜，同時(shí)驅(qū)動(dòng)磁體基件旋轉(zhuǎn)；鍍膜結(jié)束后進(jìn)行降溫冷卻，最后取出鍍膜后的產(chǎn)品。通過(guò)上述優(yōu)化設(shè)計(jì)的稀土永磁體表面快速真空鍍鋁方法，通過(guò)將磁體沉浸在管狀濺射源內(nèi)部鍍膜，大大提高鍍膜效率且提高靶材的利用率，并且在鍍膜同時(shí)受到等離子體中的例子轟擊，提高薄膜的結(jié)合性和致密性。 |
