一種管狀磁控濺射源、磁控濺射單元及鍍膜系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921420699.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211367711U | 公開（公告）日 | 2020-08-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211367711U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-28 |
| 分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王君 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 合肥賚晟科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥市長(zhǎng)遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段曉微 |
| 地址 | 315000 浙江省寧波市鎮(zhèn)海區(qū)莊市街道光明路189號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種管狀磁控濺射源，在濺射管體內(nèi)部形成鍍膜空間，磁控濺射放電與空心陰極放電相耦合，使得等離子體密度增大，從而提高沉積速率，同時(shí)磁體單元的第一磁體和第二磁體沿鍍膜空間周向分布，在濺射管體側(cè)壁產(chǎn)生沿周向延伸的磁力線，有效避免磁力線沿軸向分布引起的軸向膜厚不均的問題，有效提高濺射均勻性。本實(shí)用新型還提出一種磁控濺射單元，通過轉(zhuǎn)動(dòng)工件架與上述管狀磁控濺射源配合，彌補(bǔ)了磁力線周向延伸造成的磁場(chǎng)周向起伏，大大提高鍍層厚度的均勻性。本實(shí)用新型還提出一種磁控濺射鍍膜系統(tǒng)。?? |
