一種碳硅陶瓷靶材的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010234099.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111320478B | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-02-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111320478B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-11 |
分類(lèi)號(hào) | C04B35/575(2006.01)I;C04B35/573(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;C04B35/645(2006.01)I;C04B35/65(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 分類(lèi) | 水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料〔4〕; |
發(fā)明人 | 白雪;劉宇陽(yáng);王星奇;楊磊;桂濤;王星明;儲(chǔ)茂友;韓滄 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 有研資源環(huán)境技術(shù)研究院(北京)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京北新智誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉秀青 |
地址 | 101407北京市懷柔區(qū)雁棲經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)興科東大街11號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種碳硅陶瓷靶材的制備方法。該制備方法包括以下步驟:(1)根據(jù)要制備的靶材的碳硅比,稱(chēng)量石墨粉體、單質(zhì)硅粉體、SiC粉體,其中單質(zhì)硅粉體占三者總量的5at%?15at%;(2)將石墨粉體與單質(zhì)硅粉體采用臥軸球磨法破碎和混合,得到碳硅預(yù)球磨粉體;(3)在碳硅預(yù)球磨粉體中添加已稱(chēng)量好的SiC粉體,并置于臥軸球磨罐內(nèi)球磨混合2小時(shí),得到復(fù)合原料粉體;(4)將復(fù)合原料粉體篩分后,裝入石墨模具中,將模具放在熱壓爐中,抽真空<500pa時(shí)充入氬氣,采用前段快速升溫、中段液相燒結(jié)和高溫氬氣保護(hù)燒結(jié);(5)冷卻得到碳硅陶瓷靶材坯料,經(jīng)加工、清洗、烘干得到碳硅陶瓷靶材。本發(fā)明制備的碳硅陶瓷靶材的相對(duì)密度大于90%,硅摻雜含量誤差+/?1at%,電阻率低于0.05Ω·cm,適用于濺射制備DLC薄膜。 |
