一種用于硅片清洗拋光的混酸清洗液及拋光硅片清洗方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111031405.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113736580A 公開（公告）日 2021-12-03
申請公布號 CN113736580A 申請公布日 2021-12-03
分類號 C11D7/08（2006.01）I;C11D7/26（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I 分類 動物或植物油、脂、脂肪物質(zhì)或蠟；由此制取的脂肪酸；洗滌劑；蠟燭;
發(fā)明人 杉原一男;賀賢漢;李飛;趙劍鋒;洪漪 申請（專利權(quán)）人 上海中欣晶圓半導體科技有限公司
代理機構(gòu) 上海申浩律師事務(wù)所 代理人 趙建敏
地址 200444上海市寶山區(qū)山連路181號1幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于硅片清洗拋光的混酸清洗液及拋光硅片清洗方法，不對DHF腐蝕槽的結(jié)構(gòu)形式進行改進，通過提供一種由氫氟酸、有機酸以及去離子水組成的混酸清洗液，并在SC?1及臭氧水清洗后配合使用HF/有機酸/去離子水→O3/去離子水→干燥的工藝，實現(xiàn)在DHF槽中僅有顆粒過濾器而無金屬過濾器的存在的情況下，高效降低硅片表面的金屬水平，保持清潔度的持續(xù)性。經(jīng)過測試，能夠?qū)伖夤杵砻鍹CL水平由當前的1E10至少降低至1E8Atoms/cm。