一種單片式硅片使用有機(jī)酸的清洗方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202110849318.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN113658851A | 公開（公告）日 | 2021-11-16 |
| 申請公布號 | CN113658851A | 申請公布日 | 2021-11-16 |
| 分類號 | H01L21/02（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 杉原一男;賀賢漢;趙劍鋒 | 申請（專利權(quán)）人 | 上海中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海申浩律師事務(wù)所 | 代理人 | 趙建敏 |
| 地址 | 200444上海市寶山區(qū)山連路181號1幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種單片式硅片使用有機(jī)酸的清洗方法，包括如下步驟：制定噴射清洗順序：清洗順序一、的的清洗順序二、的DHF和0.1～3.0vol％的清洗方式為：僅重復(fù)清洗順序一，僅重復(fù)清洗順序二或者使用清洗順序一和二的組合方式；利用了有機(jī)酸的鰲合效應(yīng)，確立了單片式清洗機(jī)使用有機(jī)酸的最佳清洗方法，可以實(shí)現(xiàn)硅片表面金屬離子“防止再附著”的目的，實(shí)現(xiàn)提高拋光硅片的金屬水平從1E9至1E8Atoms/cm。 |
