一種CVD設備背板精密研磨液、制備工藝及加工方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110470629.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113201285A 公開（公告）日 2021-08-03
申請公布號 CN113201285A 申請公布日 2021-08-03
分類號 C09G1/02;B24B1/00;B24B57/02 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應用;
發(fā)明人 范洪發(fā);何橋;謝磊 申請（專利權）人 安徽應友光電科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 239500 安徽省滁州市全椒縣十譚現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種CVD設備背板精密研磨液、制備工藝及加工方法，包括0.1?3%的有機酸、0.1?10%金屬氧化物、0.1?5%的PH緩沖劑、0.1?1%的緩蝕劑、1?10%的膠體二氧化硅、去離子水，研磨液PH值為4?4.5。具體步驟是：將20份的電子級膠體二氧化硅加入到去離子水中，其中電子級膠體二氧化硅平均粒徑為120um，緩慢加入膠體二氧化硅磨料，充分攪拌30min，再加入1份酒石酸，3份過氧化氫，0.1份改性咪唑啉衍生物，分散其中后，加入PH緩沖劑三乙醇胺進行酸堿平衡，調節(jié)PH至4.2，制作成精密研磨液。通過精細研磨的方法，去除附著在背板表面的污染物，同時將部件的損耗降低到最小水平，保證背板表面再生后粗糙度與光亮度，降低設備復機顆粒污染風險。