一種用于大尺寸CVD腔體背板表面處理的等離子拋光設(shè)備及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110494225.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113231944A 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN113231944A 申請公布日 2021-08-10
分類號 B24B29/02;B24B1/00;B24B57/02;B08B3/02;B08B3/10;C23C16/44 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 劉洋;向飛 申請（專利權(quán)）人 安徽應(yīng)友光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 239500 安徽省滁州市全椒縣十譚現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于大尺寸CVD腔體背板表面處理的等離子拋光設(shè)備及方法，包括平臺、拋光槽、清洗槽及控制柜，所述平臺頂面固接兩個導(dǎo)軌，兩個導(dǎo)軌上方放置有移動平臺，所述移動平臺底面轉(zhuǎn)動連接四個導(dǎo)輪。本發(fā)明掛具組件內(nèi)設(shè)置了兩個上卡勾及兩個下卡勾的間距，便于應(yīng)對不同大小的工件，無需更換掛具，實(shí)用價值高，本發(fā)明中拋光槽內(nèi)設(shè)置了循環(huán)系統(tǒng)，通過循環(huán)泵使得其內(nèi)的拋光液處于流動狀態(tài)，進(jìn)而使得拋光液整體上下濃度均勻，不會產(chǎn)生濃度差，避免了因?yàn)閽伖庖簼舛炔町悓?dǎo)致拋光表面光澤度不均勻的現(xiàn)象，本發(fā)明中清洗槽內(nèi)采用噴頭噴洗，噴洗后的水可以對工件進(jìn)行浸洗，浸洗過程中，水在攪拌葉的作用下持續(xù)流動，提高了清洗質(zhì)量。