金屬靶盤、陽極靶盤以及X射線管

基本信息

申請?zhí)?/td> 2020211696741 申請日 -
公開（公告）號 CN212411995U 公開（公告）日 2021-01-26
申請公布號 CN212411995U 申請公布日 2021-01-26
分類號 H01J35/10(2006.01)I;H01J35/26(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 楊小明 申請（專利權(quán)）人 北京智束科技有限公司
代理機構(gòu) 北京萬思博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉冀
地址 102600北京市大興區(qū)中關(guān)村科技園大興生物醫(yī)藥產(chǎn)業(yè)基華佗路50號院12號樓1層103室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種金屬靶盤、陽極靶盤以及X射線管。其中金屬靶盤(10)，包括：相對于金屬靶盤(10)的軸線傾斜設(shè)置的靶面(110)，用于接受電子束轟擊并產(chǎn)生X射線；與靶面(110)鄰接的正表面(120)；以及與正表面(120)相對設(shè)置的背表面(130)，還包括：配重槽(140)，配重槽(140)圍繞金屬靶盤的軸線設(shè)置；以及配重塊(150)，配重塊(150)設(shè)置于配重槽(140)內(nèi)，并且能夠在配重槽(140)內(nèi)移動。??