一種背光模組制備工藝及背光模組

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110704301.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113450648A 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113450648A 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) G09F9/30（2006.01）I;G02B5/08（2006.01）I 分類 教育；密碼術(shù)；顯示；廣告；印鑒;
發(fā)明人 朱劍飛;李幸達(dá);韓婷婷 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市瑞豐光電子股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 鄒學(xué)瓊
地址 518000廣東省深圳市光明新區(qū)公明辦事處田寮社區(qū)第十工業(yè)區(qū)1棟六樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種背光模組制備工藝及背光模組，涉及背光器件領(lǐng)域。背光模組制備工藝包括提供反光材料和發(fā)光模組，發(fā)光模組界定相背的發(fā)光面與背光面，以及連接發(fā)光面和背光面的側(cè)面；將反光材料連接于發(fā)光模組的背光面和/或側(cè)面；拼接發(fā)光模組，以使反光材料將發(fā)光模組之間的拼縫遮擋和/或填充。其比傳統(tǒng)方式的可控性、可調(diào)性好，有利于控制反光材料的遮擋情況，能夠使反光材料更好地發(fā)揮遮擋效果。背光模組通過(guò)背光模組制備工藝制備得到，使反光材料能夠?qū)l(fā)光模組間的拼縫充分遮擋或填充，避免出現(xiàn)局部遮擋/填充不充分的情況，大大降低了暗線或者暗點(diǎn)出現(xiàn)的概率，有效提升了發(fā)光效果和發(fā)光均一性。