一種單一芯片雙信道保護(hù)組件的制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810597483.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110581057A | 公開(公告)日 | 2019-12-17 |
申請公布號 | CN110581057A | 申請公布日 | 2019-12-17 |
分類號 | H01L21/02(2006.01); H01L21/027(2006.01); H01L21/78(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李運(yùn)鵬; 郭小紅; 陳智偉; 黃傳傳 | 申請(專利權(quán))人 | 江西薩瑞微電子技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海宣宜專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 江西薩瑞微電子技術(shù)有限公司 |
地址 | 330114 江西省南昌市臨空經(jīng)濟(jì)區(qū)儒樂湖399號四樓409室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種單一芯片雙信道保護(hù)組件的制造方法,包括如下步驟:(1)將一片硅晶圓作基底,基底為P型或N型,(2)將所述硅晶圓置入擴(kuò)散爐或離子布植機(jī)中,摻雜一層N型或P型雜質(zhì),(3)之后將硅晶圓置入氧化爐中,加熱氧化形成另一層氧化層,(4)再將所述硅晶圓置入擴(kuò)散爐摻雜繼續(xù)驅(qū)入,使PN接面形成,(5)以第一光照照射基底表面,(6)通過微影術(shù)曝光獲得擴(kuò)散區(qū)域及切割道圖案。本發(fā)明在原硅片擴(kuò)散后,芯片正反面使用二套U型槽光刻板,蝕刻U型槽以形成有效的PN節(jié),后經(jīng)鈍化技術(shù)保護(hù)PN節(jié),劃開切割道后形成雙通道集成芯片,成本低。 |
