一種IC基板多功能化學(xué)制程裝置及方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210389949.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114496862B 公開(kāi)（公告）日 2022-07-12
申請(qǐng)公布號(hào) CN114496862B 申請(qǐng)公布日 2022-07-12
分類號(hào) H01L21/67（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/027（2006.01）I;H01L21/306（2006.01）I;B01D29/35（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 馬庫(kù)斯·郎;馬丁·施萊 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 鑫巨（深圳）半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市前海深港合作區(qū)前灣一路1號(hào)A棟201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種IC基板多功能化學(xué)制程裝置及方法，該裝置包括：?jiǎn)伟逄幚砑庸な遥鰡伟逄幚砑庸な覂?nèi)盛有用于浸沒(méi)IC基板的溶液；多功能?chē)娮煜到y(tǒng)，用于IC基板的表面處理；水流噴管，用于在溶液表面形成可帶走任何可能存在的微粒和/或碎屑溢流通道；過(guò)濾系統(tǒng)，與溢流通道連通，用于過(guò)濾溢流通道中的微粒和/或碎屑。本發(fā)明將待處理的IC基板置于單板處理加工室的溶液中；利用多功能?chē)娮煜到y(tǒng)對(duì)IC基板表面進(jìn)行處理并去除任何可能存在的微粒和/或碎屑；通過(guò)水流噴管形成朝向過(guò)濾系統(tǒng)的溢流通道帶動(dòng)被去除的微粒和/或碎屑朝向過(guò)濾系統(tǒng)流動(dòng)，并通過(guò)過(guò)濾系統(tǒng)對(duì)流動(dòng)到的微粒和/或碎屑進(jìn)行過(guò)濾處理，可以有效提高對(duì)于IC基板表面處理上的效率及靈活性。