一種空化器

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121203390.4 申請日 -
公開（公告）號 CN214810921U 公開（公告）日 2021-11-23
申請公布號 CN214810921U 申請公布日 2021-11-23
分類號 B01J19/24（2006.01）I;B01J19/00（2006.01）I;B01J4/00（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 馬庫斯·郎 申請（專利權(quán)）人 鑫巨（深圳）半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 武志峰
地址 518000廣東省深圳市前海深港合作區(qū)前灣一路1號A棟201室（入駐深圳市前海商務(wù)秘書有限公司）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種空化器，設(shè)置于蝕刻機的循環(huán)系統(tǒng)中，用于保持蝕刻機中的蝕刻劑溶液的濃度，蝕刻機的循環(huán)系統(tǒng)包括用于盛放蝕刻劑溶液的容納池，空化器包括密封連接的混合裝置和氣泡破裂裝置，混合裝置連通容納池的下端，氣泡破裂裝置連通容納池的上端，混合裝置內(nèi)設(shè)有朝向氣泡破裂裝置的混合噴嘴，混合裝置的外側(cè)設(shè)有多個連通混合噴嘴且用于注入氣體和蝕刻成分劑的注入接頭，氣泡破裂裝置內(nèi)設(shè)有使氣泡發(fā)生破裂的擋板組件。本實用新型提供的空化器結(jié)構(gòu)中，通過混合裝置和氣泡破裂裝置可使得注入的氣體和蝕刻成分劑充分與蝕刻劑溶液進行化學(xué)反應(yīng)，具有穩(wěn)定保持蝕刻機中的蝕刻劑溶液的高濃度和混合均勻的優(yōu)點。