一種均勻出粉的四點式噴嘴

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023083042.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214782145U 公開（公告）日 2021-11-19
申請公布號 CN214782145U 申請公布日 2021-11-19
分類號 C23C24/10（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 任楷;李冬杰;齊歡 申請（專利權）人 天津輝銳激光科技有限公司
代理機構 天津展譽專利代理有限公司 代理人 陳欣
地址 300000天津市濱海新區(qū)（華苑產(chǎn)環(huán)外）海泰發(fā)展二路四號4號樓103B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種均勻出粉的四點式噴嘴，涉及液相色譜技術領域，包括噴嘴主體貫通設置有激光通道,所述噴嘴主體頂部環(huán)繞所述激光通道設置有激光口連接槽,所述噴嘴主體四周傾斜設置有進粉機構和冷卻機構,所述噴嘴主體底部設置有噴頭,所述噴頭與激光通道同軸并連通，所述進粉機構包括均勻分布在噴嘴主體四周的進粉口,所述進粉口處設置有進粉接口,輸粉管道一端與所述進粉接口連通,另一端與所述出粉口連通,所述輸粉管道與激光通道之間設置有冷卻水道,所述冷卻水道一端連通進水口,另一端連通回水口，本實用新型出粉均勻，同步送粉量大，具有良好的粉末匯聚效果和較高利用率，熔覆質量高。