一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811355439.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111188013A 公開（公告）日 2020-05-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN111188013A 申請(qǐng)公布日 2020-05-22
分類號(hào) C23C14/24;C23C14/04;C23C14/06;C23C14/08 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馬道遠(yuǎn) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市融光納米科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 鐘子敏
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道科技路一號(hào)桑達(dá)科技大廈2A18
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種真空蒸發(fā)鍍膜方法、混合物、制備光學(xué)薄膜的方法，所述方法包括：在真空蒸發(fā)設(shè)備中設(shè)置蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料；對(duì)所述蒸鍍材料及熱傳導(dǎo)材料進(jìn)行加熱，以使得所述蒸鍍材料蒸發(fā)至待成膜區(qū)域成膜，所述熱傳導(dǎo)材料留置于所述真空蒸發(fā)設(shè)備中。通過(guò)上述方式，本申請(qǐng)能夠提高成膜表面的光潔度。