一種光學(xué)薄膜/顏料片、制備方法及裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201811341757.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111239859A | 公開（公告）日 | 2020-06-05 |
| 申請公布號 | CN111239859A | 申請公布日 | 2020-06-05 |
| 分類號 | G02B1/10(2015.01)I | 分類 | 光學(xué); |
| 發(fā)明人 | 馬道遠 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳市融光納米科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 程利 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道科技路一號桑達科技大廈2A18 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請公開了一種光學(xué)薄膜/顏料片、制備方法及裝置，所述制備方法包括：將脫膜后的光學(xué)薄膜/顏料片放置于容器中，其中，所述脫膜后的光學(xué)薄膜/顏料片的空隙中含有待去除離子，該待去除離子包括脫模劑離子；向所述容器中添加含有第一電離物質(zhì)的溶液，其中，所述第一電離物質(zhì)含有與所述待去除離子對應(yīng)的匹配離子，以在電離反應(yīng)中利用所述匹配離子結(jié)合所述待去除離子，從而將所述待去除離子從所述空隙中去除。通過上述方式，本申請能夠?qū)⒋コx子從光學(xué)薄膜/顏料片的空隙中去除，從而提高顏料片在涂層中的穩(wěn)定性和耐久性。?? |
