納米結(jié)構(gòu)色晶體的制備方法、生產(chǎn)系統(tǒng)及納米結(jié)構(gòu)色晶體

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811543448.2 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111321378A 公開(公告)日 2020-06-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN111321378A 申請(qǐng)公布日 2020-06-23
分類號(hào) C23C14/30(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馬道遠(yuǎn) 申請(qǐng)(專利權(quán))人 深圳市融光納米科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 鐘子敏
地址 315000 浙江省寧波市奉化區(qū)經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)濱海新區(qū)濱海大道388號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種納米結(jié)構(gòu)色晶體的制備方法、生產(chǎn)系統(tǒng)及納米結(jié)構(gòu)色晶體,該納米結(jié)構(gòu)色晶體的制備方法包括:提供一基板;將保護(hù)材料設(shè)置于基板上,以對(duì)基板形成一流平層;將脫膜劑設(shè)置于流平層上,以形成一犧牲層;將光學(xué)介質(zhì)材料設(shè)置于犧牲層上,以形成一光學(xué)薄膜;剝離光學(xué)薄膜;將光學(xué)薄膜碎化,過篩后得到納米結(jié)構(gòu)色晶體。通過上述方式,本申請(qǐng)不需要頻繁更換基板,能夠解決生產(chǎn)成本過高的問題。??