一種光學(xué)薄膜顏料片的制備方法及制備裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811427416.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111218649A | 公開（公告）日 | 2020-06-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111218649A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-02 |
| 分類號(hào) | C23C14/22(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 馬道遠(yuǎn) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳市融光納米科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 鐘子敏 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道科技路一號(hào)桑達(dá)科技大廈2A18 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種光學(xué)薄膜顏料片制備方法及制備裝置，該方法包括：提供一顏料片基底及一比較片，所述比較片至少包括第一鍍膜位、第二鍍膜位；在所述第一鍍膜位及所述顏料片基底上同步分別沉積第一種材料以形成各自的第一膜層，并在檢測(cè)到所述第一鍍膜位上的光信號(hào)強(qiáng)度值達(dá)到第一預(yù)設(shè)強(qiáng)度值時(shí)，停止沉積所述第一種材料；在所述第二鍍膜位及沉積有第一膜層的所述顏料片基底上同步沉積第二種材料以形成各自的第二膜層，并在檢測(cè)到所述第二鍍膜位上的光信號(hào)強(qiáng)度值達(dá)到第二預(yù)設(shè)強(qiáng)度值時(shí)，停止沉積所述第二種材料；重復(fù)上述沉積所述第一種材料和所述第二種材料的過(guò)程。通過(guò)上述方式，本發(fā)明能夠提高所述光學(xué)薄膜顏料片的生產(chǎn)效率。?? |
