直流電壓式化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201620464984.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN205662598U 公開（公告）日 2016-10-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN205662598U 申請(qǐng)公布日 2016-10-26
分類號(hào) C23C16/503(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林及人;王金明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 重慶涌陽(yáng)光電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京一格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 重慶啟越涌陽(yáng)微電子科技發(fā)展有限公司;重慶信合啟越科技有限公司
地址 401332 重慶市沙坪壩區(qū)西園二路98號(hào)一期標(biāo)準(zhǔn)廠房1號(hào)樓5層2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種直流電壓式化學(xué)氣相沉積設(shè)備。所述直流電壓式化學(xué)氣相沉積設(shè)備包括反應(yīng)腔室、第一電極、第二電極、溫度控制裝置和兩個(gè)升降裝置；所述兩個(gè)升降裝置分別與第一電極和第二電極固定，用于控制第一電極與第二電極之間的距離；所述至少一個(gè)金屬托盤設(shè)在于第二電極上；所述第一電極與直流電源電連接，所述第二電極與等離子電源接地端電連接，所述溫度控制裝置設(shè)在第二電極上，給第二電極加熱或降溫；所述反應(yīng)腔室上設(shè)有用以供氣的進(jìn)氣通道以及用以排出氣體的排氣通道。本實(shí)用新型直流電壓式化學(xué)氣相沉積設(shè)備可對(duì)碳納米材料的成長(zhǎng)參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。