一種用于腐蝕氮化硅掩膜的漿料的清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200910234467.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN101722155B 公開（公告）日 2011-08-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN101722155B 申請(qǐng)公布日 2011-08-31
分類號(hào) B08B3/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;C11D7/04(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I 分類 清潔;
發(fā)明人 王立建;王栩生;朱冉慶;章靈軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 阿特斯新能源控股有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;常熟阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯光伏電力(洛陽)有限公司;阿特斯光伏科技(蘇州)有限公司;阿特斯太陽能光電(蘇州)有限公司;阿特斯光伏電子(常熟)有限公司;常熟阿特斯太陽能電力有限公司;阿特斯光伏電力（洛陽）有限公司;阿特斯光伏科技（蘇州）有限公司;阿特斯太陽能光電（蘇州）有限公司;阿特斯光伏電子（常熟）有限公司
地址 215129 江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)鹿山路199號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于腐蝕氮化硅掩膜的漿料的清洗方法，包括如下步驟：(1)在氨水溶液中超聲清洗；(2)在純水中超聲清洗至少2次；(3)在稀鹽酸溶液中超聲清洗；(4)純水噴淋；(5)循環(huán)純水浸漬。本發(fā)明的清洗方法可以徹底清除硅片表面的漿料殘留和各種雜質(zhì)，防止了因殘留漿料清洗不徹底對(duì)電池性能造成的負(fù)面影響。