一種支撐裝置及CVD反應(yīng)器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120891234.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215365975U 公開（公告）日 2021-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN215365975U 申請(qǐng)公布日 2021-12-31
分類號(hào) C23C16/44（2006.01）I;B25B11/00（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱建中;于偉華;鞠德勝;萬榮群 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫海飛凌半導(dǎo)體材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 李瑩
地址 214000江蘇省無錫市宜興經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)杏里路10號(hào)宜興光電產(chǎn)業(yè)園1幢201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種支撐裝置及CVD反應(yīng)器，涉及產(chǎn)品放置架技術(shù)領(lǐng)域。所述支撐裝置包括多個(gè)支撐柱，多個(gè)圓形骨架，第一支撐架以及第二支撐架；多個(gè)支撐柱呈圓形布置；多個(gè)圓形骨架間隔設(shè)置在多個(gè)支撐柱上；第一支撐架設(shè)置在圓形骨架內(nèi)，用于支撐產(chǎn)品；第二支撐架設(shè)置在支撐柱上，用于固定各支撐柱。本實(shí)用新型實(shí)施例提出的支撐裝置中，多個(gè)圓形骨架間隔設(shè)置在多個(gè)支撐柱上，每個(gè)圓形骨架內(nèi)均設(shè)有用于支撐產(chǎn)品的第一支撐架，從而極大提高了空間利用率，使得支撐裝置能夠放置更多產(chǎn)品。進(jìn)一步地，圓形骨架穩(wěn)定性好，并且，通過第二支撐架能夠更好固定支撐柱，使得支撐更加穩(wěn)定，支撐性更好，有助于上下層空間的氣流均勻分布。