一種碳化硅涂層及其過渡層和制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110448539.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113151800A 公開（公告）日 2021-07-23
申請公布號 CN113151800A 申請公布日 2021-07-23
分類號 C23C16/02;C23C16/32 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 于偉華;朱建中;鞠德勝;萬榮群 申請（專利權(quán)）人 無錫海飛凌半導(dǎo)體材料有限公司
代理機構(gòu) 深圳市精英專利事務(wù)所 代理人 李瑩
地址 214000 江蘇省無錫市宜興經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)杏里路10號宜興光電產(chǎn)業(yè)園1幢201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種碳化硅涂層及其過渡層和制備方法，涉及表面處理技術(shù)領(lǐng)域。過渡層的制備方法包括：將硅改性酚醛樹脂以及活性炭添加到溶劑中，制備混合試劑；將混合試劑均勻涂覆到基材表面，并烘干；將基材放入CVD反應(yīng)器內(nèi)，抽真空至0.1?1mbar；在惰性氣體保護下升溫至650?850℃后保溫，同時，保持CVD反應(yīng)器內(nèi)的壓力為80?200mbar；在保溫0.5?2小時后，保持反應(yīng)器內(nèi)壓力不變，升溫至1300?1400℃后，保溫2.5?4小時；降溫至550?750℃；在反應(yīng)器內(nèi)通入空氣進行吹掃，并保溫3?5小時。通過在基材表面設(shè)置一層多孔結(jié)構(gòu)的過渡層，可在沉積碳化硅時增加基材與碳化硅之間的結(jié)合力，使得碳化硅涂層更加致密，降低涂層表面粗糙度，并且有利于將基材和外部環(huán)境隔絕，避免基材的雜質(zhì)帶入后續(xù)的系統(tǒng)中。