處理裝置及成像設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121544684.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215729301U | 公開(公告)日 | 2022-02-01 |
申請公布號 | CN215729301U | 申請公布日 | 2022-02-01 |
分類號 | G03G21/18(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 范文燚;黃云欣;張玉萍 | 申請(專利權(quán))人 | 珠海鼎龍匯通打印科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 盧澤明 |
地址 | 519000廣東省珠海市高新區(qū)金鼎科技工業(yè)園金恒二路6號2棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及成像設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,提供一種處理裝置及成像設(shè)備,其中處理裝置包括:顯影模塊,顯影模塊包括顯影輥;感光模塊,顯影模塊與感光模塊轉(zhuǎn)動連接,感光模塊包括與顯影輥平行設(shè)置的感光鼓;分離構(gòu)件,設(shè)置在顯影模塊或感光模塊上,分離構(gòu)件上具有受力部,受力部上具有朝感光鼓方向設(shè)置的受力面,受力面為非平滑面。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型中分離構(gòu)件的受力面選用非平滑面,提高了受力面的摩擦系數(shù),外部的分離施力構(gòu)件在持續(xù)作用于受力面時不會發(fā)生打滑現(xiàn)象,防止分離構(gòu)件在受力過程中出現(xiàn)脫離風(fēng)險,保證了成像效果。 |
