一種適用于RIE制絨后晶體硅片的表面微腐蝕清洗方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201511022694.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105449045B | 公開(公告)日 | 2017-03-22 |
申請公布號 | CN105449045B | 申請公布日 | 2017-03-22 |
分類號 | H01L31/18(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;C30B33/10(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 解觀超;劉金浩;上官泉元 | 申請(專利權(quán))人 | 江西比太科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 江西比太科技有限公司 |
地址 | 330096 江西省南昌市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)京東大道1189號高新歐洲工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種適用于RIE制絨后晶體硅片的表面微腐蝕清洗方法。本發(fā)明采用BOE蝕刻液與雙氧水混合溶液對RIE制絨后晶體硅片進(jìn)行清洗。其中,雙氧水的作用是在RIE制絨后硅片表面生成一層氧化層,BOE蝕刻液中的HF溶液與氧化層反應(yīng),實現(xiàn)微腐蝕的效果。BOE蝕刻液能保持溶液的酸度,從而保證溶液腐蝕速率的穩(wěn)定性。本發(fā)明能夠?qū)IE制絨后的硅片表面進(jìn)行微腐蝕,既能實現(xiàn)去除表面損傷層和表面尖端結(jié)構(gòu)的效果,又能控制RIE制絨后的硅片反射率的上升速度。本發(fā)明清洗工藝可在室溫下進(jìn)行,清洗效果重復(fù)性好,避免使用控溫設(shè)備,節(jié)約生產(chǎn)成本。 |
