一種用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010429299.8 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN111424237A 公開（公告）日 2020-07-17
申請公布號(hào) CN111424237A 申請公布日 2020-07-17
分類號(hào) C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/16;C23C14/34;C23C28/00;F24S70/225 分類 -
發(fā)明人 于春鋒;李方軍;張謙 申請（專利權(quán)）人 山東三齊能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南誠智商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 代理人 山東三齊能源有限公司
地址 250220 山東省濟(jì)南市章丘區(qū)明水經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)圣福路2877號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┝艘环N用于選擇性吸收太陽光譜的膜層的制備方法，膜層包括6層，從下到上依次為氧化鉻材質(zhì)的強(qiáng)化膜、銅材質(zhì)的低發(fā)射率膜、氮化鉻材質(zhì)的緩沖膜、氮氧化鉻、氮化鉻以及氧化鉻的混合物材質(zhì)的過渡膜、氧化鉻材質(zhì)的吸收膜、二氧化硅材質(zhì)的抗反射膜，其中強(qiáng)化膜、緩沖膜、過渡膜、吸收膜以及抗反射膜均為通過反應(yīng)性濺鍍制備得到，低發(fā)射率膜為通過直流濺鍍制備得到；經(jīng)檢測，本申請制備的膜層的吸收率為93％～97％，比現(xiàn)有技術(shù)提高了3％～9％；本申請制備的膜層的發(fā)射率為3％～5％，比現(xiàn)有技術(shù)降低了3％～12％；附著力為1級(jí)；采用本申請制備的膜層的太陽能集熱器的熱效率可達(dá)80.4％，比現(xiàn)有技術(shù)提高了6％～8.4％。