一種用于平板太陽能集熱器上吸熱體的鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021817931.8 申請日 -
公開（公告）號 CN212834003U 公開（公告）日 2021-03-30
申請公布號 CN212834003U 申請公布日 2021-03-30
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;F24S70/00(2018.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 于春鋒;李方軍;張謙;謝汝謙 申請（專利權(quán)）人 山東三齊能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南誠智商標(biāo)專利事務(wù)所有限公司 代理人 楊先凱
地址 250220山東省濟(jì)南市章丘區(qū)明水經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)圣福路2877號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于平板太陽能集熱器上吸熱體的鍍膜裝置，包括兩個升降裝置和磁控濺射裝置，所述兩個升降裝置對稱安裝在鍍膜設(shè)備的兩端，在磁控濺射裝置的底部安裝有支撐腳座，在磁控濺射裝置的上還安裝有傳動機(jī)構(gòu)，所述傳動機(jī)構(gòu)上安裝有載盤，所述磁控濺射裝置包括多個真空腔體和多個鍍膜腔體，多個真空腔體均勻安裝在多個鍍膜腔體的兩端。本實(shí)用新型該裝置實(shí)現(xiàn)了在平板太陽能集熱器吸熱體上使用PVD磁控濺射鍍膜技術(shù)的目的，不僅更加的環(huán)保，而且只需一次便可完成吸熱體鍍膜，節(jié)約了鍍膜時間，提高了鍍膜效率；載盤的設(shè)置能夠?qū)哂胁煌恢媒橘|(zhì)口的吸熱板進(jìn)行穩(wěn)定輸送，大大提高了該裝置的實(shí)用性，提高了鍍膜的效率。??