一種用于平板太陽(yáng)能集熱器上吸熱體的鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021817931.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN212834003U 公開(kāi)(公告)日 2021-03-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN212834003U 申請(qǐng)公布日 2021-03-30
分類(lèi)號(hào) C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;F24S70/00(2018.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 于春鋒;李方軍;張謙;謝汝謙 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 山東三齊能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南誠(chéng)智商標(biāo)專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 代理人 楊先凱
地址 250220山東省濟(jì)南市章丘區(qū)明水經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)圣福路2877號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于平板太陽(yáng)能集熱器上吸熱體的鍍膜裝置,包括兩個(gè)升降裝置和磁控濺射裝置,所述兩個(gè)升降裝置對(duì)稱(chēng)安裝在鍍膜設(shè)備的兩端,在磁控濺射裝置的底部安裝有支撐腳座,在磁控濺射裝置的上還安裝有傳動(dòng)機(jī)構(gòu),所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有載盤(pán),所述磁控濺射裝置包括多個(gè)真空腔體和多個(gè)鍍膜腔體,多個(gè)真空腔體均勻安裝在多個(gè)鍍膜腔體的兩端。本實(shí)用新型該裝置實(shí)現(xiàn)了在平板太陽(yáng)能集熱器吸熱體上使用PVD磁控濺射鍍膜技術(shù)的目的,不僅更加的環(huán)保,而且只需一次便可完成吸熱體鍍膜,節(jié)約了鍍膜時(shí)間,提高了鍍膜效率;載盤(pán)的設(shè)置能夠?qū)哂胁煌恢媒橘|(zhì)口的吸熱板進(jìn)行穩(wěn)定輸送,大大提高了該裝置的實(shí)用性,提高了鍍膜的效率。??