一種并聯(lián)式氣體光譜分析雙氣室
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201720572768.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN206740638U | 公開(公告)日 | 2017-12-12 |
申請公布號 | CN206740638U | 申請公布日 | 2017-12-12 |
分類號 | G01N21/31(2006.01)I;G01N21/39(2006.01)I;G01N21/05(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 胡雪蛟;向柳;羅丹 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳米字科技發(fā)展有限公司 |
代理機構(gòu) | 武漢科皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 深圳米字科技發(fā)展有限公司 |
地址 | 518116 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍崗大道8288號大運軟件小鎮(zhèn)60棟1樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種并聯(lián)式氣體光譜分析雙氣室,包括制冷基板和垂直于制冷基板的氣室;制冷基板朝向氣室的一面上設(shè)有光電探測器一、激光器和光電探測器二;所述氣室由互不連通的參考氣室和測量氣室沿垂直于制冷基板的方向并聯(lián)組成,氣室靠近制冷基板的一端設(shè)有光學(xué)窗口,激光器與氣室之間設(shè)有分光鏡;參考氣室遠離制冷基板的一端設(shè)有平行于制冷基板的反射鏡一,測量氣室遠離制冷基板的一端設(shè)有平行于制冷基板的反射鏡二,參考氣室側(cè)壁兩端分別設(shè)有標準氣體進口和標準氣體出口,測量氣室側(cè)壁兩端分別設(shè)有待測氣體進口和待測氣體出口。參考氣室和測量氣室之間為可拆卸連接,位置可互換。光路部分可以使用空間光,也可采用光纖以避免光路調(diào)節(jié)的麻煩。 |
