光譜儀的溫控方法、溫控裝置及氣體分析儀
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910596321.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110427057A | 公開(公告)日 | 2021-07-06 |
申請公布號 | CN110427057A | 申請公布日 | 2021-07-06 |
分類號 | G05D23/20;G01N21/01 | 分類 | 控制;調(diào)節(jié); |
發(fā)明人 | 敖小強;李瑞姣 | 申請(專利權)人 | 北京雪迪龍科技股份有限公司 |
代理機構 | 北京律和信知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 冷文燕;王月春 |
地址 | 102206 北京市昌平區(qū)回龍觀國際信息產(chǎn)業(yè)基地3街3號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種光譜儀的溫控方法、溫控裝置及氣體分析儀。光譜儀的溫控方法包括:獲取環(huán)境溫度T和環(huán)境相對濕度,根據(jù)環(huán)境溫度T和環(huán)境相對濕度確定結露點,根據(jù)結露點確定溫控區(qū)間最小值Ta;根據(jù)光譜儀的最佳工作溫度區(qū)間確定溫控區(qū)間最大值Tb;確定臨界值Tc,Tc=(Ta+Tb)/2;若環(huán)境溫度T高于臨界值Tc,對光譜儀進行降溫,溫控目標值為Ta;若環(huán)境溫度T低于臨界值Tc,對光譜儀進行加溫,溫控目標值為Tb。本發(fā)明采用分段式控溫,使得光譜儀可滿足寬范圍環(huán)境溫度的要求。 |
